传奇私服发布网-Whkeshi.Com 1.85合击 c传奇私服 | 荷兰巨头垄断全球,1nm光刻机取得突破,三星、台积电迎来新机遇

c传奇私服 | 荷兰巨头垄断全球,1nm光刻机取得突破,三星、台积电迎来新机遇

随着工艺制程的微缩,芯片行业摩尔定律面临物理极限,不少业内人士认为,芯片制作工艺将止步于2nm。日前,台积电宣布已经攻克2nm工艺技术难关,为芯片领域带来延续摩尔定律的希望。但摩尔定律能否延续不单单依靠芯片制造厂商,还要看光刻机制造商能否实现技术突破。放眼全

  随着工艺制程的微缩,芯片行业摩尔定律面临物理极限,不少业内人士认为,芯片制作工艺将止步于2nm。

  日前,台积电宣布已经攻克2nm工艺技术难关,为芯片领域带来延续摩尔定律的希望。但摩尔定律能否延续不单单依靠芯片制造厂商,还要看光刻机制造商能否实现技术突破。

  放眼全球光刻机制造领域,荷兰巨头ASML凭借技术和产业链优势已经垄断全球市场多年。如今,依旧只有ASML一家能够实现高精度光刻机的量产,且这类EUV光刻机的年产量有限,这就导致无论是三星还是台积电,都需要提前砸钱抢购。

  既然ASML是目前全球最强的光刻机制造商,那么延续摩尔定律这项任务,自然而然就被业界放在了ASML身上。而这家行业龙头也不负众望,日前传来“1nm光刻机取得突破”的好消息。

  11月30日日本媒体报道,IMEC公司在线上召开的一场发布会中透露,该公司会与ASML紧密合作,对下一代高分辨率EUV光刻机技术——高NA EUV光刻机技术进行商业化。

  同时,IMEC强调:将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。

  笔者了解到,IMEC还在ITF Japan 2020上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。

  此外,据IMEC透露,ASML已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,预计在2022年左右实现商业化。

  资料显示,这类高NA EUV光刻机对于接下来的2nm及以下超精细工艺的研发十分重要。而且,这套高NA EUV设备还会因为囊括巨大的光学系统,拥有更大的体积,根据路线图中的设备与人的比例可知,高NA EUV设备很有可能会定在洁净室的天花板下。

  抛开此设备的体积不谈,这类设备的面世将会为三星、台积电或者整个半导体领域,甚至所有能够应用到超精细工艺芯片的行业带来新的机遇。

  不过,当物理极限真正到来时,或许应该考虑新的芯片升级方向,例如材料替代。在这方面我国已经有所突破,碳基晶圆便是成就之一。

  相比传统硅基芯片,碳基芯片拥有更大潜力和特质上的优势。虽然在光刻机和芯片制造工艺上中国大陆处于落后状态,但借助新材料实现弯道超车也并非不可能。

  文/谛林 审核/子扬 校对/知秋

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作者: zhaosf

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